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半導體可控硅模塊集成電路的發展過程和特性

來源:昆二晶發布日期:2018-05-27關注:-
        (一)半導體可控硅模塊集成電路的發展過程
         1.電工線路(電阻器?電感線圈?電容器等元器件組成,不包括半導體元器件) 
         2.半導體線路(電路中包括了二極管?晶體管和可控硅管等半導體器件)
         3.分立元器件電路
         4.半導體集成電路
         定義:把可控硅模塊?電容和半導體器件集中制作在同一半導體基片上,並在內部實現互連的電路?小規模集成電路(SSI)-中規模集成電路(MSI)-大規模集成電路(LSI)-超大規模集成電路(VLSI)
        (二)半導體可控硅模塊的特性:
         ①導電性能介于導體和絕緣體之間;
         ②當半導體受到外界光和熱的刺激時,其導電能力將發生顯著的變化;
         ③在純浄的半導體中加入微量的雜質,導電能力會有顯著増加。

可控硅模塊


         特性形成:
         ①半導體的原子結構和共價鍵
         ②本征半導體的導電作用,就是完全純浄的?結構完整的半導體晶體?
         ③雜質半導體的導電作用
         2.可控硅模塊PN結的形成和特性
         P型?N型半導體交界處電子和空穴存在濃度差
         PN結的特性――単向導電性
         正向PN結表現為一個很小的電阻-正向電流 I隨外加PN結電壓顯著変化
         反向PN結表現為一個很大的電阻-反向電流 I’很小?為飽和電流
         昆二晶可控硅模塊真專家,為了您滿意,我們真的走心了。若對我們的可控硅模塊有興趣或存在疑惑,昆二晶歡迎您咨詢,咨詢電話:0577-62627555

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